HermeS®
Spécifications du wafer
Caractéristiques techniques du wafer | |||||||
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Épaisseur du wafer | 500-1 600 μm ± 20 μm | ||||||
Taille du wafer | 4“, 6“, 8“ | ||||||
Pas du via | min. 400 μm | ||||||
Diamètre du via | 80 μm | ||||||
Matériaux du via |
Tungstène (W) - combiné avec du BOROFLOAT® 33 (sur demande : AF 32® eco) |
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Herméticité | Débit de fuite ≤ 1 × 10-9 Pa · m3/s, [≤ 1 × 10-8 mbar l/s] |
Spécifications du verre
Caractéristiques techniques du verre | |||||||
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Type de verre | Borofloat®33 | AF 32®eco 33 | |||||
Coefficient de dilatation thermique (CDT) |
3,25 x 10-6/K (correspond au silicium) |
3,2 x 10-6/K (correspond au silicium) |
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Constante diélectrique à 1 MHz | 4,6 | 5,1 | |||||
Indice de réfraction (à 600 nm) | 1,47 | 1,51 |
Kristina Gruber
Responsable produit/vente