HermeS®

Com confiabilidade superior, excelente desempenho de RF, alta transparência óptica e a opção de ligação anódica com silício, os wafers herméticos TGV HermeS® têm todas as propriedades certas para criar dispositivos e sensores compactos e extremamente duráveis alimentados por MEMS.

A linha de recursos excepcionais do HermeS®

Como combater ameaças à eficiência

A combinação de materiais fortes e tecnologia de vidro-metal ajuda o equipamento MEMS a lidar com múltiplas ameaças, desde procedimentos repetidos de esterilização médica até linhas de produção industrial corrosivas.

Componentes mais duradouros

A alta resistência mecânica, térmica e química dos wafers de vidro HermeS® contribui significativamente para uma vida útil mais longa dos dispositivos MEMS.

Opções de miniaturização

O fato de que os wafers herméticos TGV HermeS® da SCHOTT podem ser presos diretamente em um MEMS de silício permite uma considerável miniaturização no design de dispositivos – até 80% menores do que os dispositivos MEMS de cerâmica.

Garantia de qualidade

Em comparação com as vias de silício (TSV) e outras TGVs, os wafers HermeS® permitem um processamento e controle de qualidade superiores na produção de dispositivos MEMS e aplicações finais, combinando o CTE do material de vidro e as vias de metal sólido.

Especificações do wafer

Dados técnicos do wafer
Espessura do wafer 500 - 1.600 μm ±20 μm
Tamanho do wafer 4“, 6“, 8“
Através de inclinação mín. 400 μm
Através do diâmetro 80 μm
Via materiais Tungstênio (W) – combinado com BOROFLOAT® 33
(mediante solicitação: AF 32® eco)
Hermética Taxa de vazamento ≤ 1 × 10–9 Pa · m3/s, [≤ 1 × 10–8 mbar l/s]

Especificações do vidro

Dados técnicos do vidro
Material do vidro Borofloat®33 AF 32®eco 33
CTE (coeficiente de
expansão térmica)
3,25 x 10-6/K
(corresponde a Si)
3,2 x 10-6/K
(corresponde a Si)
Constante dielétrica a 1 MHz 4,6 5,1
Índice de refração (a 600 nm) 1,47 1,51

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Kristina Gruber, Product/Sales Manager
Kristina Gruber

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