FOTURAN® II
ショットFOTURAN® IIは、卓越した均質性を実現するために連続溶融工程で製造された光造形ガラスです。 紫外線曝露と加熱工程を経て、微細かつ正確な構造を形成できます。こちらはガラスセラミックスと微細構造の両方の特性を必要とする分野で使用が可能となります。
極めて微細で高度な構造
FOTURAN®IIは光造形ガラスであり、UV照射や熱処理によって結晶化した部分をエッチングすることで、必要に応じてカスタマイズされた3D形状の高アスペクト比の非常に微細な造形物を作ることができます。 FOTURAN®IIは、2回目の露光と焼き戻しの工程を経て、不透明なガラスセラミックに変化することも可能です。
半導体パッケージにも対応
微細な構造を持つFOTURAN®II基板は、半導体やパッケージの工程で非常に有用な役割を果たします。 構造化は、フォトレジストを使用せずに実現でき、半導体業界で一般的に使用されている装置を使用することができるため、作業や余分なコストを最小限に抑えることができます。
優れた材料特性
非常に素晴らしい数々の技術特性が、FOTURAN® IIに多数の用途に適した特性を付与しています。 それは、連続融解工程により非常に均一なガラスセラミックスの製造が可能になり、薄板ウエハー形状を含む板厚ラインナップを、低TTV、細かい粗さ、低欠陥率で提供しています。 FOTURAN® IIウエハーの構造は、均一な特性と性能の信頼性を提供する標準的な半導体装置を使用することで簡単に実現できます。
光造型可能
紫外線露光などの半導体の標準的な手順で製造されたウェーハ構造。
非常に均一な組成
製造時の連続溶解により、高い均質性が得られます。
優れた安定性
機械的、熱的、電気的、化学的安定性が高く、通常の環境照明にも影響されません。
半導体の互換性
標準半導体装置との高い互換性。
セラミック化可能
2回目のUV照射と焼き戻し工程を経て、セラミック基板が完成します。
適応性のある伝送
光造形のパラメータを調整することで、さまざまな透過率を得ることができます。
